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J-GLOBAL ID：201102288971088404   整理番号：11A0557731

ナノギャップ電極作製のためのDNAブロックコポリマー合成および塩基配列選択的な金属化

著者 (7件)： 渡辺雪江 (北大 大学院) ,  松尾保孝 (北大 電子科研) ,  松尾保孝 (JST-CREST) ,  新倉謙一 (北大 電子科研) ,  新倉謙一 (JST-CREST) ,  居城邦治 (北大 電子科研) ,  居城邦治 (JST-CREST)
資料名： 高分子学会北海道支部研究発表会講演要旨集
巻： 45th  ページ： 33  発行年： 2011年02月01日 
JST資料番号： L2306A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： 電極 ,...
準シソーラス用語： シスプラチン ,...

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分類 (1件)： 核酸一般  (EB04010U)

物質索引 (1件)： 7-デアザグアノシン

タイトルに関連する用語 (6件)： ナノギャップ電極 ,  作製 ,  DNA ,  ブロックコポリマー ,  塩基配列 ,  金属化