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J-GLOBAL ID：201102289000984230   整理番号：11A0618394

カーボンオニオンのナノ砥粒としての適用可能性に関する研究

著者 (2件)： 向後博康 (東京工大 大学院) ,  平田敦 (東京工大 大学院理工学研究科)
資料名： 精密工学会誌  (Journal of the Japan Society for Precision Engineering)
巻： 77  号： 3  ページ： 311-315  発行年： 2011年03月05日 
JST資料番号： F0268C  ISSN： 0912-0289  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 本研究では,ナノダイヤモンドを加熱して生成したカーボンオニオンをナノスケールの砥粒としてシリコンウエハを研磨し,ナノ砥粒としての適用可能性について検討した。カーボンオニオン,ナノダイヤモンドで研磨した場合の表面粗さおよび研磨速度を比較し,温度を変えて加熱して得た加熱ナノダイヤモンドで得られる研磨面についても検討した。これにより得た主な知見を次に示した。1)800~2000°Cで加熱処理したナノダイヤモンドには,加熱処理温度によらず,すべての温度で研磨能力があること,2)1400°Cで加熱処理したナノダイヤモンドの場合,無加熱ナノダイヤモンドに比べて2次粒子径が増大し,研磨面粗さも増大して全加熱温度中最大となること,3)2000°Cで加熱処理して生成したカーボンオニオンの場合,スラリー中での2次粒子径は無加熱ナノダイヤモンドに比べて増加したものの,研磨面はスクラッチの少ない平滑な面となり,粗さは全加熱温度中最小となること。

シソーラス用語： クラスタ分子 ,  炭素 ,  ダイヤモンド ,  *超微粒子 ,  *砥粒 ,  ウエハ【IC】 ,  ケイ素 ,  *研磨 ,  表面粗さ ,  *熱処理 ,  温度依存性 ,  研磨面 ,  *カーボンオニオン ,  *シリコンウエハ ,  *ナノダイヤモンド ,  研磨速度 ,  鉱石 ,  宝石 ,  *機械工作

分類 (2件)： 研削  (QC03000R) ,  炭素とその化合物  (YB02060D)

引用文献 (8件)：

• 1) Hiroshi Makita : NEW DIAMOND, 12, 3, (1996) 8 (in Japanese).
• 2) Eiji Osawa : Function & Materials, <b>29</b>, 6, (2009) 5 (in Japanese).
• 3) Weimin Lin, Teruko Kato, Hitoshi Ohmori, Eiji Osawa : Study on tribo-fabrication in polishing by nano diamond colloid, Journal of the Japan Society for Abrasive Technology, 52, 8, (2008) 439 (in Japanese).
• 4) D. Ugarate : Onion-Like Graphitec Particles, carbon, 33, 7, (1995) 989.
• 5) Yu. V. Butenko, S. Krishnamurthy, A. K. Chakraborty, V. L. Kuzenetsov, V, R, Dhanak, M. R. C. Hunt : Photoemission Study of Onionlike Carbons Produced by Annealing nanodiamonds, Phys. Rev, B71, (2005), 075420.

タイトルに関連する用語 (4件)： カーボンオニオン ,  砥粒 ,  適用可能性 ,  研究