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J-GLOBAL ID:201102290477081434   整理番号:11A1842839

低密度プラズマに基づく6.7nmにおける極端紫外光源

Extreme ultraviolet source at 6.7 nm based on a low-density plasma
著者 (9件):
資料名:
巻: 99  号: 19  ページ: 191502  発行年: 2011年11月07日 
JST資料番号: H0613A  ISSN: 0003-6951  CODEN: APPLAB  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 短報  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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ガドリニウム(Gd)プラズマの光学的厚さを最適化して,λ=6.7nmで動作する効率的極端紫外(EUV)光源を実証した。低初期密度Gdターゲットと二重レーザパルス照射を用いて,0.6%帯域幅に対して0.54%(2%帯域幅に対して1.8%)の最高EUV変換効率を観測した。これは固体密度ターゲットから生成された0.33%(0.6%帯域幅)変換効率の1.6倍である。低密度プラズマを利用したEUV変換効率の向上は自己吸収効果の低下に起因した。(翻訳著者抄録)
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分類 (1件):
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固体デバイス製造技術一般 
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