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J-GLOBAL ID：201102294468778320   整理番号：11A1892575

電子照射と溶媒アニーリングを用いて混合したモルフォロジーと周期をもつサブ10nmのブロック共重合体パターンの組立て

Assembly of Sub-10-nm Block Copolymer Patterns with Mixed Morphology and Period Using Electron Irradiation and Solvent Annealing

著者 (4件)： SON Jeong Gon (Massachusetts Inst. of Technol., Massachusetts, USA) ,  CHANG Jae-Byum (Massachusetts Inst. of Technol., Massachusetts, USA) ,  BERGGREN Karl K. (Massachusetts Inst. of Technol., Massachusetts, USA) ,  ROSS Caroline A. (Massachusetts Inst. of Technol., Massachusetts, USA)
資料名： Nano Letters  (Nano Letters)
巻： 11  号： 11  ページ： 5079-5084  発行年： 2011年11月 
JST資料番号： W1332A  ISSN： 1530-6984  CODEN： NALEFD  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 同一ブロック共重合体膜に周期の異なる線と点または点パターンのサブ10nmの複雑な高分解能パターンを形成する方法を開発した。この方法はポリ(スチレン-ブロック-ジメチルシロキサン)膜をアセトンまたはジメチルシロキサンによる溶媒アニーリングを行い,それぞれ円柱または球の規則的パターンを形成する。その一部の領域を電子ビームで選択照射すると膜が架橋し,パターンの維持が可能になる。再溶媒アニーリングを行うと,架橋領域外の膜には新しい球または円柱の規則的パターンが形成される。パターンの安定性,周期,サイズなどに対する電子ビーム露光量の効果を調べた。球パターンで囲まれた線分パターン,水素シルセスキオキサン柱アレイを組合せた二相パターンなどを示した。

シソーラス用語： *高分子薄膜 ,  *ブロック共重合体 ,  *ポリスチレン ,  *ポリジメチルシロキサン ,  *パターン形成 ,  *電子照射 ,  溶媒 ,  焼なまし ,  モルフォロジー ,  周期構造 ,  高分解能 ,  架橋【高分子】 ,  露光 ,  有機ケイ素化合物 ,  円柱 ,  球状 ,  アレイ ,  脂肪族ケトン
準シソーラス用語： 水素シルセスキオキサン

分類 (3件)： 有機化合物の薄膜  (BK14070L) ,  固体デバイス製造技術一般  (NC03030V) ,  共重合  (CG04030D)

物質索引 (1件)： アセトン

タイトルに関連する用語 (8件)： 電子照射 ,  溶媒 ,  アニーリング ,  モルフォロジー ,  周期 ,  サブ ,  ブロック共重合体 ,  組立て