特許

J-GLOBAL ID：201103000096246556

塩、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法

発明者： 嶋田 雅彦 ,  市川 幸司
出願人/特許権者： 住友化学株式会社
代理人 (1件)： 新樹グローバル・アイピー特許業務法人
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-262073
公開番号（公開出願番号）：特開2011-148766
出願日： 2010年11月25日
公開日（公表日）： 2011年08月04日
要約：

【課題】本発明の塩をレジスト組成物に用いることにより、優れた解像度及びラインエッジラフネスを有するパターンを得ることを目的とする。【解決手段】式(I)で表される塩。[式(I)中、Q1及びQ2は、互いに独立に、フッ素原子又はC1〜C6ペルフルオロアルキル基を表す。Lは、2価のC1〜C17飽和炭化水素基を表し、該2価の飽和炭化水素基に含まれる-CH2-は、-O-又は-CO-で置き換わっていてもよい。W1は、C2〜C36の複素環を表し、該複素環に含まれる水素原子は、ハロゲン原子、水酸基、C1〜C24の炭化水素基、C1〜C12のアルコキシ基、C2〜C4のアシル基又はC2〜C4のアシルオキシ基で置換されていてもよく、該複素環に含まれる-CH2-は、-O-で置き換わっていてもよい。Z+は、有機対イオンを表す。]【選択図】なし

請求項（抜粋）：

式(I)で表される塩。

IPC (4件)：

C07D 205/12 ,  G03F 7/004 ,  G03F 7/039 ,  H01L 21/027

FI (4件)：

C07D205/12 ,  G03F7/004 503A ,  G03F7/039 601 ,  H01L21/30 502R

Fターム (23件)：

2H125AF17P ,  2H125AF18P ,  2H125AF21P ,  2H125AF26P ,  2H125AF38P ,  2H125AF70P ,  2H125AH17 ,  2H125AH19 ,  2H125AJ14X ,  2H125AJ65X ,  2H125AJ69X ,  2H125AN38P ,  2H125AN39P ,  2H125AN45P ,  2H125AN54P ,  2H125AN65P ,  2H125BA02P ,  2H125BA26P ,  2H125CA12 ,  2H125CB09 ,  2H125CC03 ,  2H125CC15 ,  2H125FA03

引用特許：

審査官引用 (1件)

• ポジ型感光性組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-132546   出願人：富士写真フイルム株式会社