特許
J-GLOBAL ID：200903037427159775

ポジ型感光性組成物

発明者：
児玉 邦彦

児玉 邦彦 について

, 
青合 利明

青合 利明 について


出願人/特許権者：
富士写真フイルム株式会社

富士写真フイルム株式会社 について


代理人 (1件)： 小栗 昌平 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-132546
公開番号（公開出願番号）：特開2002-214774
出願日： 2001年04月27日
公開日（公表日）： 2002年07月31日
要約：
【要約】【課題】 遠紫外光、とくにArFエキシマレーザー光を使用する上記ミクロフォトファブリケ-ション本来の性能向上技術の課題を解決することであり、感度、解像力、露光マージンに優れ、スカムの発生の少ないポジ型感光性組成物を提供する。【解決手段】活性光線又は放射線の照射により式(X)のスルホン酸を発生する化合物と、単環又は多環の脂環炭化水素構造を有し、酸の作用により分解しアルカリ現像液中での溶解度が増大する樹脂とを含有するポジ型感光性組成物。【化1】
請求項（抜粋）：
(A)活性光線又は放射線の照射により下記一般式(X)で表されるスルホン酸を発生する化合物、及び(B)単環又は多環の脂環炭化水素構造を有し、酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度が増大する樹脂を含有することを特徴とするポジ型感光性組成物。【化1】式(X)中、R1a〜R13aはそれぞれ水素原子、アルキル基、ハロゲン原子で置換されたアルキル基、ハロゲン原子または水酸基を表す。A1及びA2は同一または異なっており、それぞれヘテロ原子を有する2価の連結基または単結合を表す。但し、A1及びA2が同時に単結合の場合、R1a〜R13aの全てが同時にフッ素原子を表すことはなく、またR1a〜R13aの全てが同時に水素原子を表すことはない。m1〜m5は同一または異なっており、それぞれ0〜12の整数を表す。pは0〜4の整数を表す。
IPC (10件)：
G03F 7/004 503 ,  G03F 7/004 501 ,  C08K 5/42 ,  C08L101/12 ,  H01L 21/027 ,  C07C 25/02 ,  C07C309/09 ,  C07C309/68 ,  C07C317/28 ,  C07C381/12
FI (10件)：
G03F 7/004 503 A ,  G03F 7/004 501 ,  C08K 5/42 ,  C08L101/12 ,  C07C 25/02 ,  C07C309/09 ,  C07C309/68 ,  C07C317/28 ,  C07C381/12 ,  H01L 21/30 502 R
Fターム (43件)：
2H025AA00 ,  2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AA04 ,  2H025AB16 ,  2H025AB17 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BG00 ,  2H025CB13 ,  2H025CB14 ,  2H025CB29 ,  2H025CC20 ,  2H025FA03 ,  2H025FA12 ,  2H025FA17 ,  4H006AA03 ,  4H006AB76 ,  4H006EA21 ,  4H006TA02 ,  4H006TN10 ,  4H006TN30 ,  4H006TN90 ,  4J002AA00W ,  4J002AA00X ,  4J002BC12X ,  4J002BG01X ,  4J002BG03X ,  4J002BG05W ,  4J002BG07W ,  4J002BG08W ,  4J002BH02W ,  4J002BQ00W ,  4J002CC03X ,  4J002EH037 ,  4J002EH117 ,  4J002EL087 ,  4J002EV236 ,  4J002EV296 ,  4J002FD206 ,  4J002FD207
引用特許：
審査官引用 (6件)
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