R-T-B系磁石の電解銅めっき方法

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出願人/特許権者：
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-205786
公開番号（公開出願番号）：特開2002-332592
特許番号：特許第4045530号
出願日： 2001年07月06日
公開日（公表日）： 2002年11月22日
請求項（抜粋）：

【請求項1】 R-T-B系磁石(RはYを含む希土類元素の少なくとも1種であり、TはFe又はFe及びCoである。)を電解銅めっきする方法において、20〜150g/リットルの硫酸銅及び30〜250g/リットルのキレート剤を含有し、前記キレート剤はエチレンジアミン四酢酸(EDTA)、ジエチレントリアミン五酢酸(DTPA)、N-ヒドロキシエチレンジアミン三酢酸(HEDTA)、N,N,N,N-テトラキス-(2-ヒドロキシプロピル)-エチレンジアミン(THPED)又はアミノカルボン酸誘導体からなり、かつ銅イオンの還元剤を含有しないとともにピロリン酸銅の錯体を含有しない、pHを10.5〜13.5に調整した電解銅めっき液を使用することにより、前記磁石素地と前記電解銅めっきとの密着力を0.5N/cm以上に高めたことを特徴とするR-T-B系磁石の電解銅めっき方法。

IPC (4件)：

C25D 7/00 ( 200 6.01) , C25D 3/38 ( 200 6.01) , H01F 1/053 ( 200 6.01) , H01F 41/02 ( 200 6.01)

FI (4件)：

C25D 7/00 K , C25D 3/38 101 , H01F 1/04 H , H01F 41/02 G

引用特許：

審査官引用 (8件)

特開昭48-075429
特開平1-286407
特開平1-219187

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