集積化光モジュールの実装方法

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出願人/特許権者：
代理人 (3件)：山本秀策 , 安村高明 , 大塩竹志
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-094132
公開番号（公開出願番号）：特開2000-284135
特許番号：特許第3844326号
出願日： 1999年03月31日
公開日（公表日）： 2000年10月13日
請求項（抜粋）：

【請求項1】第1のアライメントキーが形成された半導体レーザと、強誘電体基板上にプレーナ型光導波路が形成され且つ該プレーナ型光導波路を形成する際に使用されるフォトマスクを使用して該強誘電体基板上に第2のアライメントキーが形成された光導波路デバイスと、をサブマウント上に少なくとも実装して構成される集積化光モジュールの実装方法であって、前記プレーナ型光導波路を形成するための開口部に対して前記第2のアライメントキーが所定位置に予め形成された前記フォトマスクを、前記開口部を通してのプロトン交換処理によって前記プレーナ型光導波路を形成した後にエッチングすることにより前記第2のアライメントキーを形成するステップと、前記半導体レーザ及び前記光導波路デバイスの何れか一方を前記サブマウントの表面に固定するステップと、前記半導体レーザの前記第1のアライメントキーと前記光導波路デバイスの前記第2のアライメントキーとを前記サブマウントの裏面より赤外光を照射して同一視野内で認識される画像に基づいて検出するステップと、前記サブマウントの表面内で、前記検出された第1及び第2のアライメントキーの何れか一方の位置を基準位置として、前記検出された他方のアライメントキーの位置を、前記光導波路デバイスの光入射端面にほぼ平行な方向において、位置合わせ調整するステップと、を包含する、集積化光モジュールの実装方法。

IPC (5件)：

G02B 6/122 ( 200 6.01) , G02B 6/13 ( 200 6.01) , G02B 6/42 ( 200 6.01) , G02F 1/377 ( 200 6.01) , H01S 5/022 ( 200 6.01)

FI (5件)：

G02B 6/12 B , G02B 6/12 M , G02B 6/42 , G02F 1/377 , H01S 5/022

引用特許：

審査官引用 (14件)

特開平4-316005
光導波路モジュールおよびその作製方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-058348 出願人：日本電信電話株式会社
整列マークを有する光学装置およびその製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-074124 出願人：アルカテル・アルストム・コンパニイ・ジエネラル・デレクトリシテ

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