特許
J-GLOBAL ID:201103001103643147

無機薄膜が形成されたポリオレフィン多孔質膜及びその製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 三原 秀子
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-203212
公開番号(公開出願番号):特開2001-035468
特許番号:特許第4563526号
出願日: 1999年07月16日
公開日(公表日): 2001年02月09日
請求項(抜粋):
【請求項1】 熱溶融性ポリオレフィンからなる多孔質膜の少なくとも一方の表面上に無機薄膜が形成されてなるポリオレフィン多孔質膜であって、 前記無機薄膜は、真空製膜法によって形成され、当該無機薄膜の表面抵抗が1TΩ以上となる無機酸化物よりなり、当該ポリオレフィン多孔質膜の空孔の内部表面には実質的に形成されていないことを特徴とする、無機薄膜が形成されたポリオレフィン多孔質膜。
IPC (1件):
H01M 2/16 ( 200 6.01)
FI (1件):
H01M 2/16 L
引用特許:
審査官引用 (4件)
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