特許

J-GLOBAL ID：201103001103977207

基板加熱装置

発明者： 前 川 長 慶
出願人/特許権者： 芝浦メカトロニクス株式会社
代理人 (4件)： 佐藤 一雄 ,  永井 浩之 ,  岡田 淳平 ,  名塚 聡
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-092930
公開番号（公開出願番号）：特開2000-286247
特許番号：特許第3887120号
出願日： 1999年03月31日
公開日（公表日）： 2000年10月13日
請求項（抜粋）：

【請求項1】 円形の被処理基板を載置する載置面を有し前記被処理基板よりも小径な基板載置台と、この基板載置台を加熱して前記載置面上の前記被処理基板を加熱する加熱手段と、前記基板載置台の側周位置にて周方向に間隔をおいて配置され、前記載置面に載置された前記被処理基板の側端縁に係合して前記被処理基板の水平方向の移動を規制する複数の基板保持部材と、を備え、 前記基板保持部材は、屈曲した細長の棒状部材にて形成されており、屈曲した前記棒状部材は、前記被処理基板の側端縁に係合する縦棒部分と、この縦棒部分の下端から前記被処理基板の裏面側に延びる横棒部分と、を有し、前記横棒部分は前記被処理基板の裏面から離間していることを特徴とする基板加熱装置。

IPC (3件)：

H01L 21/3065 ( 200 6.01) ,  H01L 21/027 ( 200 6.01) ,  H01L 21/683 ( 200 6.01)

FI (3件)：

H01L 21/302 104 H ,  H01L 21/30 572 A ,  H01L 21/68 N

引用特許：

出願人引用 (2件)

• 堆積装置用サセプタ
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-038850   出願人：アプライドマテリアルズインコーポレイテッド
• 特開昭63-241929
  

審査官引用 (2件)

• 堆積装置用サセプタ
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-038850   出願人：アプライドマテリアルズインコーポレイテッド
• 特開昭63-241929