特許
J-GLOBAL ID:201103002075199593
光コヒーレンストモグラフィ方法およびシステム
発明者:
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出願人/特許権者:
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代理人 (1件):
特許業務法人深見特許事務所
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2011-517813
公開番号(公開出願番号):特表2011-528111
出願日: 2009年07月15日
公開日(公表日): 2011年11月10日
要約:
周波数領域光コヒーレンストモグラフィ(FD-OCT)システムおよび方法が提供される。これにより、第1の測定および第2の測定が行なわれ、第1の測定において第1のスペクトル幅のスペクトルを有する測定光で対象物区域が照射され、第2の測定において第2のスペクトル幅のスペクトルを有する測定光で対象物区域が照射され、第1のスペクトル幅は、第2のスペクトル幅よりも少なくとも10%大きい。さらに、第1の測定中に、対象物と相互作用しかつ参照光と重畳される光のスペクトル範囲の強度が検出され、これらのスペクトル範囲の幅は、第2の測定中の対応する幅よりも大きい。したがって、対象物における照射損傷を最小化するとともに、深さ方向にわたる対象物の構造的情報の軸方向視野を切替えることが可能となる。
請求項(抜粋):
スペクトル領域光コヒーレンストモグラフィ(SD-OCT)方法であって、
第1の測定および第2の測定を行なうステップを含み、各測定は、
対象物区域を測定光で照射するステップと、
対象物区域から戻った測定光を参照光と重畳するステップと、
重畳された光をスペクトル的に分散させるステップと、
スペクトル的に分散された光の複数の異なるスペクトル部分の強度を検出するステップとを含み、
前記第1の測定中には、対象物区域を照射する測定光が第1のスペクトルにしたがってスペクトル的に分配され、
前記第2の測定中には、対象物区域を照射する測定光が第2のスペクトルにしたがってスペクトル的に分配され、
前記第1のスペクトルの第1のスペクトル幅は、前記第2のスペクトルの第2のスペクトル幅よりも少なくとも10%大きい、方法。
IPC (1件):
FI (1件):
Fターム (17件):
2G059AA05
, 2G059AA06
, 2G059BB08
, 2G059CC16
, 2G059EE09
, 2G059EE12
, 2G059FF02
, 2G059GG02
, 2G059GG09
, 2G059HH01
, 2G059JJ03
, 2G059JJ05
, 2G059JJ06
, 2G059JJ11
, 2G059JJ15
, 2G059JJ17
, 2G059KK04
引用特許:
審査官引用 (3件)
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可変奥行き解像力を有する光学マッピング装置
公報種別:公表公報
出願番号:特願2001-543977
出願人:オーティーアイオフサルミックテクノロジーズインク
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光断層画像化装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2005-289121
出願人:富士フイルム株式会社
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光断層画像化装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2005-289122
出願人:富士フイルム株式会社
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