特許
J-GLOBAL ID:201103002680749023

電極およびその製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (3件): 内藤 浩樹 ,  永野 大介 ,  藤井 兼太郎
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-176591
公開番号(公開出願番号):特開2002-367509
特許番号:特許第4691834号
出願日: 2001年06月12日
公開日(公表日): 2002年12月20日
請求項(抜粋):
【請求項1】 少なくとも感光性材料を用いて形成する黒色層を最下層とする多層構成の電極の製造方法であって、透明基板上に黒色層を含む第1層のパターンを形成する工程と、第2層導電膜を塗工する工程と、透明基板の裏面から露光マスクを用いず全面露光する工程と、現像することにより前記黒色層上に前記第2層導電膜のパターンを形成する工程と、焼成する工程を含み、前記第2層導電膜のパターンを形成する工程において、前記第2層導電膜のパターンが、前記黒色層から前記第2層導電膜のパターンの表面に向けて幅が細くなる台形の断面形状を有する事を特徴とする電極の製造方法。
IPC (2件):
H01J 9/02 ( 200 6.01) ,  H01J 11/02 ( 200 6.01)
FI (2件):
H01J 9/02 F ,  H01J 11/02 B
引用特許:
審査官引用 (4件)
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