高密度有機分子薄膜の製造方法

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：青山葆 , 山崎宏
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-046248
公開番号（公開出願番号）：特開2000-247799
特許番号：特許第3566122号
出願日： 1999年02月24日
公開日（公表日）： 2000年09月12日
請求項（抜粋）：

【請求項1】酸化チタン基板の表面に紫外線を通さない材料でマスクをかけて紫外線を照射し、次いで、該基板の紫外線照射領域のみに選択的に有機分子を吸着させて薄膜を形成させることを特徴とする高密度有機単分子薄膜の製造方法。

IPC (1件)：