特許
J-GLOBAL ID:201103003161881212
ポリテトラフルオロエチレン薄膜及びその作製方法
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
高橋 敬四郎 (外1名)
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-185639
公開番号(公開出願番号):特開2001-011217
特許番号:特許第3433138号
出願日: 1999年06月30日
公開日(公表日): 2001年01月16日
請求項(抜粋):
【請求項1】 下地部材と、前記下地部材の表面上に形成され、分子鎖の長軸方向が下地表面に対してほぼ垂直であるポリテトラフルオロエチレン膜とを有する部材。
IPC (4件):
C08J 7/04 CEW
, C08J 7/00 301
, C23C 14/12
, C08L 27:18
FI (4件):
C08J 7/04 CEW B
, C08J 7/00 301
, C23C 14/12
, C08L 27:18
引用特許:
出願人引用 (2件)
-
電子デバイス
公報種別:公開公報
出願番号:特願平7-228792
出願人:株式会社日立製作所
-
エレクトレット薄層及びその製造方法
公報種別:公表公報
出願番号:特願2000-548896
出願人:イノヴァチオーンスアゲントゥーアゲゼルシャフトミットベシュレンクテルハフツング, ヨハネスハイツ
審査官引用 (2件)
-
電子デバイス
公報種別:公開公報
出願番号:特願平7-228792
出願人:株式会社日立製作所
-
エレクトレット薄層及びその製造方法
公報種別:公表公報
出願番号:特願2000-548896
出願人:イノヴァチオーンスアゲントゥーアゲゼルシャフトミットベシュレンクテルハフツング, ヨハネスハイツ
前のページに戻る