特許

J-GLOBAL ID：201103003208418702

反射型液晶表示装置用モジュール、その製造方法及び反射型液晶表示装置

発明者： 奥田 章二 ,  大橋 誠
出願人/特許権者： インテレクチュアル ベンチャーズ ホールディング 45 リミティド ライアビリティ カンパニー
代理人 (2件)： 谷 義一 ,  阿部 和夫
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-051631
公開番号（公開出願番号）：特開2001-242485
特許番号：特許第4643786号
出願日： 2000年02月28日
公開日（公表日）： 2001年09月07日
請求項（抜粋）：

【請求項1】 半導体基板に形成された複数のスイッチング素子と、 前記半導体基板の上に形成された第1の絶縁膜と、 前記絶縁膜上に形成され、前記絶縁膜に埋め込まれた接続プラグを介して前記スイッチング素子にそれぞれ電気的に接続された複数の反射電極と、 前記反射電極を覆うカバーフィルムと、 前記反射電極間の隙間に埋め込まれて表面の平坦性を確保する、前記カバーフィルム上に形成された第2の絶縁膜と を有することを特徴とする反射型液晶表示装置用モジュール。

IPC (3件)：

G02F 1/1368 ( 200 6.01) ,  G02F 1/1335 ( 200 6.01) ,  G02F 1/1343 ( 200 6.01)

FI (3件)：

G02F 1/136 ,  G02F 1/133 520 ,  G02F 1/134

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 表示装置及びその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-178711   出願人：キヤノン株式会社
• 液晶表示装置及びその製造方法及び表示装置用基板及び投射型液晶表示装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-294465   出願人：キヤノン株式会社
• 半導体装置およびその作製方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-090246   出願人：株式会社半導体エネルギー研究所