プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：岩橋文雄 , 内藤浩樹 , 永野大介
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-289563
公開番号（公開出願番号）：特開2001-110876
特許番号：特許第3896735号
出願日： 1999年10月12日
公開日（公表日）： 2001年04月20日
請求項（抜粋）：

【請求項1】ベース部材に対して密着して密閉空間である処理室を形成する蓋部材と、前記処理室内に配置されて上面に処理対象のワークが載置される電極と、前記蓋部材の内側に取り付けられ蓋部材が前記ベース部材に密着した状態で前記電極上のワークに当接して前記電極へ押さえつけるワーク押さえ機構とを備え、このワーク押さえ機構は、蓋部材の裏面に固定された天板に吊り下げ状態で装着されて前記ワークの縁部に当接する第1の当接部材と、蓋部材の裏面に固定された天板に吊り下げ状態で装着され前記ワークの中央部に当接する第2の当接部材との少なくとも2種類の当接部材を有していることを特徴とするプラズマ処理装置。

IPC (2件)：