特許
J-GLOBAL ID:201103003861740237

高度清浄装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (3件): 萩原 康司 ,  金本 哲男 ,  亀谷 美明
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-135824
公開番号(公開出願番号):特開2000-334244
特許番号:特許第4312878号
出願日: 1999年05月17日
公開日(公表日): 2000年12月05日
請求項(抜粋):
【請求項1】 清浄雰囲気が要求される空間内の空気を循環させる循環経路を備えた高度清浄装置において, 該循環経路に,空気浄化フィルタを配置すると共に,前記空間より上流側であって空気浄化フィルタの下流側に粒子状不純物を除去するフィルタを配置し, 前記空気浄化フィルタが,酸化マンガンの粉末及び/又は過マンガン酸塩の粉末と,アルカリ金属炭酸塩の粉末及び/又はアルカリ土類金属炭酸塩の粉末を,細孔径が15〜300オングストロームである細孔の容積(cc/g)が0.3cc/g以上である無機物の粉末をバインダとして,支持体の表面に固着させて無機材料層を形成し, 前記無機物は,シリカゲル,アルミナゲル,珪酸アルミニウム,活性アルミナ,セピオライト及び活性白土のうちから選択される少なくとも一つであることを特徴とする,高度清浄装置。
IPC (2件):
B01D 53/04 ( 200 6.01) ,  B01J 20/02 ( 200 6.01)
FI (2件):
B01D 53/04 A ,  B01J 20/02 B
引用特許:
出願人引用 (6件)
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審査官引用 (6件)
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