原料ガス供給装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：石島茂男 , 阿部英樹
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-003734
公開番号（公開出願番号）：特開2000-197861
特許番号：特許第4149595号
出願日： 1999年01月11日
公開日（公表日）： 2000年07月18日
請求項（抜粋）：

【請求項1】原料液容器と、気化器と、前記原料液容器と前記気化器とを接続する原料液配管とを有し、前記原料液容器内に配置された原料液を、前記原料液配管内を通して前記気化器に導き、前記気化器内で生成された前記原料液の蒸気を真空雰囲気に置かれた反応槽内に導入できるように構成された原料ガス供給装置であって、洗浄液容器と、洗浄液配管とを有し、前記洗浄液容器内に配置された洗浄液を、前記原料液配管内に導入できるように構成され、前記原料液配管内に導入された前記洗浄液は、前記反応槽を真空排気する真空排気系に排出されるように構成され、前記洗浄液は前記気化器を流れる前に前記真空排気系に排出されるように構成されたことを特徴とする原料ガス供給装置。

IPC (2件)：