リソグラフィ用ダイヤモンド膜及びその製造方法

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：好宮幹夫
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-192851
公開番号（公開出願番号）：特開2001-077016
特許番号：特許第3576932号
出願日： 2000年06月27日
公開日（公表日）： 2001年03月23日
請求項（抜粋）：

【請求項1】原料ガスを導入して気相反応により基板上にダイヤモンド膜を成膜させる際に、ホウ素をドープしてリソグラフィ用ダイヤモンド膜を製造する方法において、前記ホウ素のドープ源として窒化ホウ素を用いることを特徴とするリソグラフィ用ダイヤモンド膜の製造方法。

IPC (3件)：