化合物超電導線、その製造方法及びその製造装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (4件)：高橋省吾 , 稲葉忠彦 , 村上加奈子 , 中鶴一隆
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-303575
公開番号（公開出願番号）：特開2001-126554
特許番号：特許第3674415号
出願日： 1999年10月26日
公開日（公表日）： 2001年05月11日
請求項（抜粋）：

【請求項1】化合物超電導相が形成された化合物超電導裸線にエナメルが被覆された化合物超電導線であって、エナメルは、化合物超電導裸線に対して、該化合物超電導裸線の断面の最小幅に対し50倍以上の曲げ半径で曲げを複数回施しかつ70MPa以下の張力をかけた条件下において、被覆されたものであることを特徴とする化合物超電導線。

IPC (5件)：