特許
J-GLOBAL ID：201103005086659730

パターン測定方法

発明者：
佐藤 隆

佐藤 隆 について

, 
井上 壮一

井上 壮一 について


出願人/特許権者：
株式会社東芝

株式会社東芝 について


代理人 (6件)： 鈴江 武彦 ,  村松 貞男 ,  橋本 良郎 ,  河野 哲 ,  中村 誠 ,  河井 将次
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-269919
公開番号（公開出願番号）：特開2001-091214
特許番号：特許第4112759号
出願日： 1999年09月24日
公開日（公表日）： 2001年04月06日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 基準パターンと被測定用パターンとの相対位置を測定するパターン測定方法であって、 所定周期の繰り返しパターンからなる被測定用パターンと、この被測定用パターンよりも線幅の大きい基準パターンとを有するマスクを用い、投影露光装置を使用して上記各パターンを試料上に転写する工程と、 前記転写により前記試料上に形成された各々のパターンに対し、該パターンを転写する際の露光波長よりも短い波長の測定光源又は荷電ビーム源を有する測定機器を用い、前記試料上の基準パターンの中心位置と被測定用パターンの中心位置を測定し、且つ被測定用パターンに対しては繰り返しの最初と最後の部分を除くパターンの中心位置を測定する工程と、 前記測定された各中心位置のずれ量を求める工程と、 を含むことを特徴とするパターン測定方法。
IPC (5件)：
G01B 11/00 ( 200 6.01) ,  G01B 15/00 ( 200 6.01) ,  G01B 15/04 ( 200 6.01) ,  G03F 1/08 ( 200 6.01) ,  H01L 21/027 ( 200 6.01)
FI (6件)：
G01B 11/00 C ,  G01B 15/00 B ,  G01B 15/04 B ,  G03F 1/08 M ,  H01L 21/30 515 F ,  H01L 21/30 516 A
引用特許：
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (4件)
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