近接露光装置及び近接露光方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：小栗昌平 , 本多弘徳 , 市川利光
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2011-002986
公開番号（公開出願番号）：特開2011-164595
出願日： 2011年01月11日
公開日（公表日）： 2011年08月25日
要約：

【課題】比較的簡単な計算で、マスクとワークのギャップを平均化することができ、露光精度を向上することができる近接露光装置及び近接露光方法を提供する。【解決手段】ギャップセンサ17によってマスクM及びワークWとの間のギャップを4箇所の測定点A、B、C、Dで測定し、4箇所の測定点A、B、C、Dによって画成される四角形ABCDの各辺の中点K,L,M,Nの4箇所の座標のうち、3箇所の中点K、L、Mの座標における各ギャップが一様になるようにZ-チルト調整機構43を駆動する。【選択図】図4

請求項（抜粋）：

露光すべきパターンを有するマスクを保持するマスク保持部と、前記マスク保持部を駆動するマスク駆動部と、被露光材としてのワークを保持するワーク保持部と、前記ワーク保持部を駆動するワーク駆動部と、前記マスク及び前記ワークとの間のギャップを4箇所の測定点で測定するギャップセンサと、前記ワークに対してパターン露光用の光を前記マスクを介して照射する照射手段と、を備え、前記マスクと前記ワークとを近接して対向配置した状態で、前記ワーク上に前記マスクのパターンを露光転写する近接露光装置であって、前記ギャップセンサによって測定される4箇所の測定点での前記マスク及び前記ワークとの間のギャップに基づいて、前記4箇所の測定点によって画成される四角形の各辺の中点の4箇所の座標のうち、3箇所の中点の座標における各ギャップが一様になるように前記マスク駆動部と前記ワーク駆動部の少なくとも一方を駆動する制御部を備えることを特徴とする近接露光装置。

IPC (3件)：

G03F 7/20 , H01L 21/027 , H01L 21/68

FI (3件)：

G03F7/20 501 , H01L21/30 511 , H01L21/68 K

Fターム (18件)：

2H097GA45 , 2H097LA12 , 5F031CA05 , 5F031CA07 , 5F031HA53 , 5F031HA56 , 5F031JA04 , 5F031JA06 , 5F031JA17 , 5F031JA30 , 5F031JA38 , 5F031JA51 , 5F031KA06 , 5F031KA07 , 5F031KA08 , 5F031MA27 , 5F046BA02 , 5F046DA17

引用特許：

審査官引用 (5件)

特公平3-005652
基板露光装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-121870 出願人：日立電子エンジニアリング株式会社
特開平3-038024

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