特許
J-GLOBAL ID:201103005277902490

3次元周期構造体およびその製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 杉村 暁秀 (外2名)
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-247181
公開番号(公開出願番号):特開2001-077345
特許番号:特許第3236889号
出願日: 1999年09月01日
公開日(公表日): 2001年03月23日
請求項(抜粋):
【請求項1】 複数種類の材料を積層方向と直交する2次元方向の双方で周期的に配置したパターン層を、前記複数の材料が積層方向において周期的に配置されるように複数層積層して成る3次元周期構造体であって、隣接するパターン層の間に薄層を挿入して成ることを特徴とする3次元周期構造体。
IPC (3件):
H01L 29/06 ,  H01L 21/20 ,  H01L 29/16
FI (3件):
H01L 29/06 ,  H01L 21/20 ,  H01L 29/16

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