特許
J-GLOBAL ID：201103005332275521

複合半透膜の製造方法

発明者：
林 修

林 修 について

, 
河村 和典

河村 和典 について

, 
福村 卓哉

福村 卓哉 について


出願人/特許権者：
日東電工株式会社

日東電工株式会社 について


代理人 (1件)： 特許業務法人 ユニアス国際特許事務所
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-229744
公開番号（公開出願番号）：特開2011-101878
出願日： 2010年10月12日
公開日（公表日）： 2011年05月26日
要約：
【課題】 耐薬品性に優れ、かつスキン層浮きが生じ難い複合半透膜の製造方法を提供することを目的とする。【解決手段】 エポキシ樹脂多孔性支持体のスキン層を形成する表面に大気圧プラズマ処理を施し、その後当該表面にスキン層を形成する。【選択図】 なし
請求項（抜粋）：
多孔性支持体の表面にスキン層を形成するスキン層形成工程を含む複合半透膜の製造方法において、 多孔性支持体は、エポキシ樹脂多孔性支持体であり、 スキン層形成工程の前に、エポキシ樹脂多孔性支持体のスキン層を形成する表面側に大気圧プラズマ処理を施すプラズマ処理工程を含むことを特徴とする複合半透膜の製造方法。
IPC (4件)：
B01D 69/12 ,  B01D 69/10 ,  B01D 71/46 ,  C08J 7/00
FI (5件)：
B01D69/12 ,  B01D69/10 ,  B01D71/46 ,  C08J7/00 306 ,  C08J7/00
Fターム (37件)：
4D006GA02 ,  4D006LA06 ,  4D006MA03 ,  4D006MA09 ,  4D006MA28 ,  4D006MB01 ,  4D006MB02 ,  4D006MB11 ,  4D006MB16 ,  4D006MC18 ,  4D006MC19 ,  4D006MC32 ,  4D006MC33 ,  4D006MC36 ,  4D006MC40 ,  4D006MC45 ,  4D006MC48 ,  4D006MC50X ,  4D006MC56X ,  4D006NA10 ,  4D006NA40 ,  4D006NA41 ,  4D006NA46 ,  4D006NA49 ,  4D006NA54 ,  4D006NA64 ,  4D006PA01 ,  4D006PA02 ,  4D006PB03 ,  4D006PB08 ,  4D006PC02 ,  4D006PC11 ,  4F073AA01 ,  4F073AA13 ,  4F073BA22 ,  4F073BB04 ,  4F073CA01
引用特許：
出願人引用 (3件) 審査官引用 (1件)
  • 高流量かつ低付着の濾過媒体
    公報種別：公表公報   出願番号：特願2007-535761   出願人：ザリサーチファウンデーションオブステイトユニバーシティーオブニューヨーク
引用文献：
出願人引用 (1件) 審査官引用 (1件)

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