特許
J-GLOBAL ID:200903028532800878
高流量かつ低付着の濾過媒体
発明者:
,
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出願人/特許権者:
代理人 (3件):
山本 秀策
, 安村 高明
, 森下 夏樹
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2007-535761
公開番号(公開出願番号):特表2008-515668
出願日: 2005年10月05日
公開日(公表日): 2008年05月15日
要約:
精密ろ過、限外ろ過(UF)およびナノろ過(NF)フィルターに適切な膜が提供される。かかる膜は、ナノファイバー足場を含んでもよく、任意に不織布ポリマー基材および/またはポリマー被覆、ならびに官能化ナノ充填材を併用してもよい。適切な膜はまた、基材にポリマー被覆および官能化ナノ充填材を含んでもよく、それは不織布膜、ナノファイバー足場またはそれらの両方を含むことができる。この被覆は、約0.3nmから約300nmに達する直径を有する少なくとも一つのナノ充填材と組み合わせたポリマーを含む。いくつかの実施形態では、この基材は、約1nmから約20,000nmの直径を有するファイバーから作られるナノファイバー足場を含んでもよい。
請求項(抜粋):
基材と、
約0.3nmから約300nmの直径を有する少なくとも一つのナノ充填材と組み合わせたポリマーを含む該基材上の被覆と、
を含む物品。
IPC (9件):
B32B 27/20
, B01D 69/10
, B01D 69/12
, B01D 71/42
, B01D 71/48
, B01D 71/08
, B01D 71/38
, B01D 71/02
, B01D 71/56
FI (9件):
B32B27/20 Z
, B01D69/10
, B01D69/12
, B01D71/42
, B01D71/48
, B01D71/08
, B01D71/38
, B01D71/02
, B01D71/56
Fターム (60件):
4D006GA02
, 4D006GA07
, 4D006MA06
, 4D006MA09
, 4D006MA10
, 4D006MA31
, 4D006MB09
, 4D006MB10
, 4D006MC05X
, 4D006MC10X
, 4D006MC33X
, 4D006MC39X
, 4D006MC45X
, 4D006MC48X
, 4D006MC54X
, 4D006MC71X
, 4D006MC81
, 4D006MC82
, 4D006NA01
, 4D006NA41
, 4D006NA45
, 4D006PB08
, 4D006PB14
, 4F100AA20B
, 4F100AB02B
, 4F100AB15B
, 4F100AB17B
, 4F100AB18B
, 4F100AB23B
, 4F100AC01B
, 4F100AC10B
, 4F100AD11B
, 4F100AJ06B
, 4F100AK01B
, 4F100AK03A
, 4F100AK03B
, 4F100AK12B
, 4F100AK17A
, 4F100AK17B
, 4F100AK21B
, 4F100AK22B
, 4F100AK25B
, 4F100AK27B
, 4F100AK36B
, 4F100AK41A
, 4F100AK41B
, 4F100AK42A
, 4F100AK42B
, 4F100AK46A
, 4F100AK46B
, 4F100AK48A
, 4F100AK51A
, 4F100AK51B
, 4F100AK55B
, 4F100AT00A
, 4F100BA02
, 4F100CA23B
, 4F100DE01B
, 4F100GB56
, 4F100YY00B
引用特許:
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