特許
J-GLOBAL ID:201103005647054736
疎水性二酸化珪素微粉末の製造方法及び製造装置
発明者:
,
,
,
出願人/特許権者:
代理人 (3件):
小島 隆司
, 西川 裕子
, 流 良広
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-262219
公開番号(公開出願番号):特開2002-068726
特許番号:特許第3685250号
出願日: 2000年08月31日
公開日(公表日): 2002年03月08日
請求項(抜粋):
【請求項1】シラン化合物の熱分解によって生成した二酸化珪素微粉末をオルガノハロシランにより流動槽で疎水化処理する疎水性二酸化珪素微粉末の製造方法において、流動槽から飛散する疎水化処理された二酸化珪素微粉末を100〜500°Cに保持されたサイクロン及びバグフィルターで捕集することを特徴とする疎水性二酸化珪素微粉末の製造方法。
IPC (5件):
C01B 33/18
, B01J 2/00
, B01J 19/00
, C09C 1/28
, C09C 3/12
FI (5件):
C01B 33/18 C
, B01J 2/00 A
, B01J 19/00 N
, C09C 1/28
, C09C 3/12
引用特許:
前のページに戻る