特許
J-GLOBAL ID：201103005951257325

アミド化合物の製造法

発明者：
押木 俊之

押木 俊之 について

, 
上原 大志

上原 大志 について


出願人/特許権者：
DOWAホールディングス株式会社

DOWAホールディングス株式会社 について


代理人 (2件)： 小松 高 ,  和田 憲治
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-179423
公開番号（公開出願番号）：特開2011-032205
出願日： 2009年07月31日
公開日（公表日）： 2011年02月17日
要約：
【課題】原材料入手において不安定さがなく低コストで且つ高温度での合成反応が可能な触媒を用いたアミド化合物製造法を提供する。【解決手段】ニトリル化合物に水を付加反応させるにあたり、該反応を表面に炭素や硫黄が存在する鉄粒子の存在下で行い、アミド化合物を製造する。炭素含有量が0.01〜5質量%、硫黄含有量が0.001〜0.1質量%である。 該反応を表面に銅や銅塩が存在する鉄粒子の存在下で行い、アミド化合物を製造する。銅含有量が0.1〜20質量%、銅塩含有量が0.1〜20質量%である。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
ニトリル化合物に水を付加反応させてアミド化合物を製造する方法において、該反応を表面の一部に炭素及び/又は硫黄が存在する鉄粒子からなる粉末触媒の存在下で行なうアミド化合物の製造法。
IPC (5件)：
C07C 231/06 ,  C07C 233/65 ,  B01J 38/00 ,  B01J 23/745 ,  B01J 27/20
FI (5件)：
C07C231/06 ,  C07C233/65 ,  B01J38/00 301U ,  B01J23/74 301Z ,  B01J27/20 Z
Fターム (35件)：
4G169AA02 ,  4G169AA10 ,  4G169BC31A ,  4G169BC31B ,  4G169BC66A ,  4G169BC66B ,  4G169BD04A ,  4G169BD04B ,  4G169BD08A ,  4G169CB25 ,  4G169CB77 ,  4G169DA08 ,  4G169EA02X ,  4G169EA02Y ,  4G169EB18X ,  4G169EB18Y ,  4G169EE01 ,  4G169FA01 ,  4G169FA02 ,  4G169FB04 ,  4G169FB14 ,  4G169FB18 ,  4G169FB44 ,  4G169FB57 ,  4G169FC08 ,  4H006AA02 ,  4H006AC53 ,  4H006BA05 ,  4H006BA19 ,  4H006BA83 ,  4H006BA85 ,  4H006BB31 ,  4H006BV71 ,  4H039CA71 ,  4H039CE20
引用特許：
出願人引用 (9件)
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審査官引用 (9件)
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