特許
J-GLOBAL ID：201103006679442750
廃棄ガス中に含まれる希薄なガス状炭化水素の処理装置
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
宮越 典明
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-077495
公開番号（公開出願番号）：特開2000-300955
特許番号：特許第3133988号
出願日： 1999年03月23日
公開日（公表日）： 2000年10月31日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 吸着と脱着を交互に行う“吸着剤層を有する吸着装置”を用い、一方の吸着装置にガス状炭化水素を含む廃棄ガスを通過せしめ、該吸着装置内の吸着剤層にガス状炭化水素を吸着させ、実質的にガス状炭化水素を含まない廃棄ガスを大気中に放出し、その間に、他方の吸着装置を脱着に切り換え、該吸着装置内の吸着剤層に吸着したガス状炭化水素を、真空ポンプで吸引して離脱せしめ、パージ排ガスに移行させることから成る廃棄ガス中に含まれる希薄なガス状炭化水素の処理方法であって、前記パージ排ガスの全量もしくは大部分を被処理廃棄ガスに戻し、これによって、吸着剤層内の炭化水素濃度を高め、該吸着剤層が破過する前に脱着に切り換えることからなり、前記パージ排ガス中のガス状炭化水素の一部が液化した場合、該液状炭化水素を燃焼処理し、または、産業廃棄物として無害化処理することからなる、廃棄ガス中に含まれる希薄なガス状炭化水素の処理方法を実施するための装置として、該装置中の前記“吸着剤層を有する吸着装置”が、吸着剤層を囲い、かつ、吸着剤層の外筒から吸着剤層に向けて横方向に廃棄ガスを通気できるコンポーネントを多重に内蔵する吸着装置からなることを特徴とする廃棄ガス中に含まれる希薄なガス状炭化水素の処理装置。
IPC (5件)：
B01D 53/72
, B01D 53/34 ZAB
, B01D 53/44
, B01D 53/70
, B01D 53/81
B01D 53/34 120 D
, B01D 53/34 117 A
, B01D 53/34 134 E
, B01D 53/34 ZAB
