特許
J-GLOBAL ID:201103007183929060
感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、これを用いたレジスト膜及びパターン形成方法
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (2件):
高松 猛
, 矢澤 清純
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2010-056741
公開番号(公開出願番号):特開2011-191446
出願日: 2010年03月12日
公開日(公表日): 2011年09月29日
要約:
【課題】通常のドライプロセスに加え、線幅45nm以下の液浸プロセスにも適合した、DOF、パターン倒れ、及び疎密依存性が改良された感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、それを用いたレジスト膜及びパターン形成方法を提供する。【解決手段】(A)特定のラクトン構造を有する繰り返し単位と、特定のスルホンアミド構造を有する繰り返し単位とを含有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する樹脂、及び(B)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有した感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、これを用いたレジスト膜及びパターン形成方法。【選択図】 なし
請求項(抜粋):
(A)下記一般式(I)で表される繰り返し単位と、下記一般式(II)で表される部分構造を有する繰り返し単位とを含有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する樹脂、及び
(B)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物
を含有することを特徴とする感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。
IPC (4件):
G03F 7/039
, G03F 7/004
, C08F 220/58
, H01L 21/027
FI (4件):
G03F7/039 601
, G03F7/004 501
, C08F220/58
, H01L21/30 502R
Fターム (90件):
2H125AF17P
, 2H125AF21P
, 2H125AF38P
, 2H125AF41P
, 2H125AF70P
, 2H125AH12
, 2H125AH15
, 2H125AH16
, 2H125AH19
, 2H125AH22
, 2H125AH24
, 2H125AH29
, 2H125AJ02Y
, 2H125AJ14X
, 2H125AJ14Y
, 2H125AJ16Y
, 2H125AJ63Y
, 2H125AJ64X
, 2H125AJ65X
, 2H125AJ65Y
, 2H125AJ69X
, 2H125AJ69Y
, 2H125AJ90Y
, 2H125AJ92Y
, 2H125AL11
, 2H125AM13P
, 2H125AM22N
, 2H125AM22P
, 2H125AM66P
, 2H125AM94N
, 2H125AM94P
, 2H125AM99N
, 2H125AM99P
, 2H125AN08P
, 2H125AN31N
, 2H125AN31P
, 2H125AN38P
, 2H125AN39P
, 2H125AN42P
, 2H125AN54P
, 2H125AN57P
, 2H125AN62P
, 2H125AN64P
, 2H125AN65P
, 2H125AN86P
, 2H125BA01P
, 2H125BA02P
, 2H125BA26P
, 2H125BA32P
, 2H125BA33P
, 2H125CA12
, 2H125CB09
, 2H125CC03
, 2H125CC15
, 2H125FA03
, 4J100AL08P
, 4J100AL08Q
, 4J100AL08R
, 4J100AL08S
, 4J100AL08T
, 4J100AM21S
, 4J100AR09P
, 4J100BA02P
, 4J100BA03R
, 4J100BA11P
, 4J100BA11S
, 4J100BA11T
, 4J100BA15P
, 4J100BA15T
, 4J100BA20P
, 4J100BA34S
, 4J100BA40P
, 4J100BA40T
, 4J100BA50S
, 4J100BA58S
, 4J100BA59S
, 4J100BC03Q
, 4J100BC04Q
, 4J100BC04S
, 4J100BC07T
, 4J100BC08S
, 4J100BC09R
, 4J100BC09T
, 4J100BC53P
, 4J100CA03
, 4J100CA04
, 4J100CA06
, 4J100DA01
, 4J100DA04
, 4J100JA37
引用特許:
出願人引用 (8件)
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審査官引用 (8件)
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