特許

J-GLOBAL ID：200903061836476489

感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法

発明者： 児玉 邦彦
出願人/特許権者： 富士フイルム株式会社
代理人 (5件)： 小栗 昌平 ,  本多 弘徳 ,  市川 利光 ,  高松 猛 ,  矢澤 清純
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-066356
公開番号（公開出願番号）：特開2007-241107
出願日： 2006年03月10日
公開日（公表日）： 2007年09月20日
要約：

【課題】IC等の半導体製造工程、液晶、サーマルヘッド等の回路基板の製造、さらにその他のフォトファブリケーション工程に使用される感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法に関するものであり、100nm以下の微細パターンの形成においても、パターン倒れ、現像欠陥が改良された感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。【解決手段】(A)特定の繰り返し単位を有する樹脂を含有する感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

(A)下記一般式(I)又は(II)で表される部分構造を有する基を有する繰り返し単位を有する樹脂を含有することを特徴とする感光性組成物。

IPC (3件)：

G03F 7/039 ,  H01L 21/027 ,  C08F 20/10

FI (3件)：

G03F7/039 601 ,  H01L21/30 502R ,  C08F20/10

Fターム (41件)：

2H025AA02 ,  2H025AA03 ,  2H025AA04 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC06 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB08 ,  2H025CB14 ,  2H025CB41 ,  2H025CB45 ,  2H025FA17 ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100AL26P ,  4J100AL26Q ,  4J100AL31Q ,  4J100AM05P ,  4J100AR11P ,  4J100AR21P ,  4J100BA02Q ,  4J100BA04Q ,  4J100BA11P ,  4J100BA15P ,  4J100BC02Q ,  4J100BC03Q ,  4J100BC04Q ,  4J100BC07Q ,  4J100BC08P ,  4J100BC08Q ,  4J100BC09P ,  4J100BC09Q ,  4J100BC12Q ,  4J100BC53P ,  4J100CA01 ,  4J100CA03 ,  4J100JA38

引用特許：

出願人引用 (4件)

• ラクトン構造を有する(メタ)アクリレート誘導体、重合体、フォトレジスト組成物、及びパターン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-188853   出願人：日本電気株式会社
• 新規なラクトン含有化合物、高分子化合物、レジスト材料及びパタ-ン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-255167   出願人：信越化学工業株式会社
• 感放射線性樹脂組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-089903   出願人：ジェイエスアール株式会社
• 化学増幅型ポジ型レジスト組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-104302   出願人：住友化学工業株式会社