スパッタリング成膜装置及びそれを用いたフォトマスクブランクスの製造方法

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出願人/特許権者：
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-281264
公開番号（公開出願番号）：特開2001-107231
特許番号：特許第3900758号
出願日： 1999年10月01日
公開日（公表日）： 2001年04月17日
請求項（抜粋）：

【請求項1】複数枚のガラス基板が載置されたトレイがロード隔離室、成膜チャンバ及びアンロード隔離室を移動して前記ガラス基板に成膜される連続式のスパッタリング成膜装置において、前記成膜チャンバには少なくともガス導入口、ターゲット、真空排気系を有しており、前記ガス導入口からガスを導入して所定の真空度でスパッターを行う際前記ターゲットの前部或いは後部にかけてガラス基板が載置されたトレイの有る、無しに関わらず、ターゲットの周辺の真空度を一定にできるように、ガス導入口及び真空排気系を覆い、ターゲットの近傍にのみ開口部を有するガス流路調整用カバーを設けたことを特徴とするスパッタリング成膜装置。

IPC (3件)：