特許

J-GLOBAL ID：201103007684680674

パーティクルモニタ装置、パーティクルモニタ方法、及び、記録媒体

発明者： 守屋 剛 ,  上杉 文彦 ,  伊藤 奈津子
出願人/特許権者： 日本電気株式会社
代理人 (1件)： 木村 満
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-255320
公開番号（公開出願番号）：特開2000-155087
特許番号：特許第3287345号
出願日： 1999年09月09日
公開日（公表日）： 2000年06月06日
請求項（抜粋）：

【請求項1】パーティクルモニタ対象領域にレーザ光を照射するレーザ照射手段と、マトリックス状に配置された複数の受光素子を備え、複数の前記パーティクルによって散乱された前記レーザ光の散乱光を受光し、複数の画素の輝度値を示す画像データを出力する受光手段と、前記受光手段が出力した前記画像データを使用して、予め設定されたしきい値以上の輝度値を有する互いに隣接する画素のひとまとまりの領域を、1つのパーティクルによって散乱された散乱光が入射した領域に対応する画素領域として検出し、該画素領域に含まれる各画素の輝度値を示す高輝度画素情報を出力する領域検出手段と、前記高輝度画素情報を使用して、前記画素領域内の最大輝度値を検出する最大輝度値検出手段と、前記高輝度画素情報を使用して、前記画素領域内の画素数を計数する画素数計数手段と、前記高輝度画素情報を使用して、前記画素領域内の輝度値の総和を求める総和手段と、前記最大輝度値、前記画素数、及び、前記総和のそれぞれを、予め設定された基準値と比較することにより、パーティクルの相対的な大きさを測定する大きさ測定手段と、を備えることを特徴とするパーティクルモニタ装置。

IPC (5件)：

G01N 15/00 ,  G01B 11/00 ,  G01N 15/14 ,  G01N 21/956 ,  H01L 21/66

FI (7件)：

G01N 15/00 A ,  G01B 11/00 H ,  G01N 15/14 B ,  G01N 15/14 P ,  G01N 21/956 A ,  H01L 21/66 J ,  H01L 21/66 Z

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 粒子または欠陥の大きさ情報の測定方法および装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-071593   出願人：三井金属鉱業株式会社
• ビームを用いた表面状態測定方法及びダストモニター装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-316378   出願人：日本真空技術株式会社