光学素子成型用型の製造方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：山下穣平
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-178643
公開番号（公開出願番号）：特開2002-003226
特許番号：特許第3667198号
出願日： 2000年06月14日
公開日（公表日）： 2002年01月09日
請求項（抜粋）：

【請求項1】母材の一部に光学素子を成型するための転写面を有する成型用型であって、該母材上に転写材を形成した後、転写面に対応する逆形状の形状に切削加工された複数個の母型を所望の形状が得られる様に組み合わせた母型を用いて、転写材の表面への転写を行う転写工程と、該転写材を硬化する工程と、該転写材及び母材に対してドライエッチングを行い、転写形状を上記母材に彫り写すエッチング工程と、エッチングされた前記母材表面に、中間層、表面層を形成する工程と、を有する光学素子成型用型の製造方法。

IPC (3件)：