特許
J-GLOBAL ID:201103007938034735
不揮発性半導体メモリ
発明者:
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出願人/特許権者:
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代理人 (27件):
鈴江 武彦
, 蔵田 昌俊
, 河野 哲
, 中村 誠
, 福原 淑弘
, 峰 隆司
, 白根 俊郎
, 村松 貞男
, 野河 信久
, 幸長 保次郎
, 河野 直樹
, 砂川 克
, 風間 鉄也
, 勝村 紘
, 河井 将次
, 佐藤 立志
, 岡田 貴志
, 堀内 美保子
, 竹内 将訓
, 市原 卓三
, 山下 元
, 鈴江 武彦
, 村松 貞男
, 橋本 良郎
, 河野 哲
, 中村 誠
, 河井 将次
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-187051
公開番号(公開出願番号):特開2001-015718
特許番号:特許第4398541号
出願日: 1999年06月30日
公開日(公表日): 2001年01月19日
請求項(抜粋):
【請求項1】 ワード線と、
第1導電型の第1MOSトランジスタ及び第2導電型の第2MOSトランジスタから構成される転送回路と、
前記ワード線と前記転送回路の出力端を接続する第1制御信号線と、
前記転送回路の入力端に接続される第2制御信号線と、
前記第2制御信号線に接続される第1デコーダと、
前記転送回路に接続される第3制御信号線と、
前記第3制御信号線に接続され、前記転送回路の動作を制御する制御信号を出力する第2デコーダとを具備し、
前記第1制御信号線は、第1配線層内に配置される第1部分と前記第1配線層上の第2配線層内に配置される第2部分とから構成され、かつ、前記ワード線は、前記第1制御信号線の前記第1部分を経由して前記第1MOSトランジスタの第1拡散層に接続され、
前記ワード線は、前記第1制御信号線の前記第1及び第2部分を経由して前記第2MOSトランジスタの第1拡散層に接続され、
前記第2制御信号線は、前記第1配線層内に配置される第1部分と前記第2配線層内に配置される第2部分とから構成され、
前記第1デコーダは、前記第2制御信号線の前記第1部分を経由して前記第2MOSトランジスタの第2拡散層に接続され、前記第2制御信号線の前記第1及び第2部分を経由して前記第1MOSトランジスタの第2拡散層に接続される
ことを特徴とする不揮発性半導体メモリ。
IPC (5件):
H01L 21/8247 ( 200 6.01)
, H01L 27/115 ( 200 6.01)
, H01L 27/10 ( 200 6.01)
, H01L 29/788 ( 200 6.01)
, H01L 29/792 ( 200 6.01)
FI (3件):
H01L 27/10 434
, H01L 27/10 481
, H01L 29/78 371
引用特許:
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