特許
J-GLOBAL ID:201103008256232736

基板処理装置のスケジュール作成方法及びそのプログラム

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 杉谷 勉
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-273223
公開番号(公開出願番号):特開2003-086562
特許番号:特許第3880348号
出願日: 2001年09月10日
公開日(公表日): 2003年03月20日
請求項(抜粋):
【請求項1】 処理液によって基板に処理を施す処理部を備えた基板処理装置により、前記処理部のリソースを使用しながら複数のロットを処理する際に、各リソースの使用タイミングを決定する基板処理装置のスケジュール作成方法において、 制御部は、前記処理部における処理液の使用時間に応じて寿命を規定するライフタイムと、前記処理部における処理液の使用回数に応じて寿命を規定するライフカウントとに基づき前記処理部のリソースを液交換で使用することを考慮し、 実際に処理を開始する前に、ライフタイムに応じた液交換予定を前記処理部のリソースに配置した後に、各ロットの各リソースの使用タイミングを液交換予定と重複しないように配置し、ライフカウントがアップした場合には、それ以降に既に配置されているライフタイムに応じた液交換予定を削除するとともに、ライフカウントがアップした直後にライフカウントのアップに伴う液交換予定を配置し、その後、再び各ロットの各リソースの使用タイミングを配置してゆくことを特徴とする基板処理装置のスケジュール作成方法。
IPC (3件):
H01L 21/304 ( 200 6.01) ,  B08B 3/04 ( 200 6.01) ,  G05B 19/418 ( 200 6.01)
FI (4件):
H01L 21/304 648 H ,  H01L 21/304 642 B ,  B08B 3/04 B ,  G05B 19/418 Z
引用特許:
出願人引用 (5件)
  • 特開昭62-078828
  • 洗浄処理方法
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平9-335012   出願人:東京エレクトロン株式会社
  • 特開昭62-078826
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審査官引用 (2件)
  • 特開昭62-078828
  • 洗浄処理方法
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平9-335012   出願人:東京エレクトロン株式会社

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