特許

J-GLOBAL ID：201103008586053927

蛍光X線分析装置およびこれに使用する記録媒体

発明者： 井上 稔 ,  井上 央 ,  片岡 由行
出願人/特許権者： 理学電機工業株式会社
代理人 (1件)： 杉本 修司 (外1名)
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-233461
公開番号（公開出願番号）：特開2001-056305
特許番号：特許第3389161号
出願日： 1999年08月20日
公開日（公表日）： 2001年02月27日
請求項（抜粋）：

【請求項1】 試料に1次X線を照射して、試料中の各元素から発生する蛍光X線の強度を測定し、それらの測定強度に基づく強度と、試料中の各元素の含有率を仮定して計算した各元素の蛍光X線の理論強度とが合致するように、前記仮定した各元素の含有率を逐次近似的に修正計算して、試料中の各元素の含有率を算出する蛍光X線分析装置において、前記測定強度に基づく強度を求めるために、当該装置についての各元素から発生する蛍光X線に対する装置感度であって原子番号の近接する元素の装置感度を推定できる多数元素の装置感度と、当該装置と同型の基準となる装置についての各元素から発生する蛍光X線に対する装置感度であって原子番号の近接する元素の装置感度を推定できる多数元素の装置感度と、前記基準となる装置についての組成が既知の多種類の標準試料中の各元素から発生する蛍光X線に対する装置感度とを記憶する記憶手段を備えたことを特徴とする蛍光X線分析装置。

IPC (1件)：

G01N 23/223

FI (1件)：

G01N 23/223

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 蛍光X線分析方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-030014   出願人：理学電機工業株式会社