特許

J-GLOBAL ID：201103008639641150

熱処理装置および熱処理方法

発明者： 江嶋 睦仁 ,  坂本 浩一
出願人/特許権者： 東京エレクトロン株式会社
代理人 (2件)： 絹谷 信雄 ,  金坂 憲幸
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-222051
公開番号（公開出願番号）：特開2002-043226
特許番号：特許第4468555号
出願日： 2000年07月24日
公開日（公表日）： 2002年02月08日
請求項（抜粋）：

【請求項1】 複数枚の被処理体を高さ方向に所定間隔で保持具に保持した状態で収容する処理容器の周囲に被処理体を周縁部から加熱昇温させる第1のヒータを設け、少なくとも前記処理容器内に被処理体を中心部から加熱昇温させる第2のヒータを設け、その第2ヒータは処理容器内の下方に設けられた下面ヒータと、処理容器外の上方に設けられた上面ヒータと、前記保持具の高さ方向中間部に設けられる中間ヒータとを有していることを特徴とする熱処理装置。

IPC (6件)：

H01L 21/205 ( 200 6.01) ,  C23C 16/46 ( 200 6.01) ,  F27D 11/02 ( 200 6.01) ,  H01L 21/22 ( 200 6.01) ,  H01L 21/31 ( 200 6.01) ,  F27B 5/14 ( 200 6.01)

FI (6件)：

H01L 21/205 ,  C23C 16/46 ,  F27D 11/02 B ,  H01L 21/22 511 A ,  H01L 21/31 E ,  F27B 5/14

引用特許：

出願人引用 (2件)

• 熱処理装置及び処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-325008   出願人：東京エレクトロン株式会社
• 特開平4-234119
  

審査官引用 (2件)

• 熱処理装置及び処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-325008   出願人：東京エレクトロン株式会社
• 特開平4-234119