特許
J-GLOBAL ID：201103008753648164
平坦化パターンの生成方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
中島 淳 (外3名)
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-201454
公開番号（公開出願番号）：特開2001-028353
特許番号：特許第3447621号
出願日： 1999年07月15日
公開日（公表日）： 2001年01月30日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 LSIレイアウトパターンが配置されたLSIチップ表面の平坦化を行うために生成する平坦化パターンの生成方法であって、前記LSIチップの領域をグリッド状に分割する第1の処理と、前記LSIレイアウトパターンを所定の大きさに拡大変換又は縮小変換する第2の処理と、前記第1の処理によって分割された各々のグリッドが、前記第2の処理により変換されたLSIレイアウトパターンの領域の内側又は外側であるかを判別する第3の処理と、前記第3の処理に基づいて、平坦化パターンの生成位置を決定する第4の処理と、を含むことを特徴とする平坦化パターンの生成方法。
IPC (2件)：
H01L 21/304 622
, H01L 21/82
H01L 21/304 622 X
, H01L 21/82 C
