特許

J-GLOBAL ID：201103009152360216

摺動材及びその表面加工方法

発明者： 千徳 英介 ,  岩井 善郎 ,  本田 知己 ,  宮島 敏郎 ,  峠 正範 ,  木内 淳介 ,  田中 隆三 ,  松井 多志
出願人/特許権者： 独立行政法人科学技術振興機構 ,  国立大学法人福井大学 ,  アイテック株式会社 ,  株式会社松浦機械製作所 ,  福井県
代理人 (1件)： 川崎 好昭
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-034316
公開番号（公開出願番号）：特開2011-168845
出願日： 2010年02月19日
公開日（公表日）： 2011年09月01日
要約：

【課題】本発明は、摺動面に形成したDLC膜に当該DLC膜よりも低硬度の改質層を形成してトライボロジー特性を改善した摺動材及びその表面加工方法を提供することを目的とするものである。【解決手段】パルスレーザシステム1からフェムト秒レーザを発射して3軸ステージ7に設置された摺動材Mの摺動面に照射する。摺動材Mの摺動面には予めDLC膜が形成されており、レーザパルスの照射によりDLC膜よりも硬度の低い改質層が形成される。改質層の硬度及び層厚は、照射するレーザパルスのフルーエンスにより調整することができ、被摺動面の硬度や表面状態に合わせて摩耗量が少なくなるように改質層を形成することが可能となる。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

摺動面に形成されたDLC膜にパルスレーザを照射して、表面にいくに従い硬度が低減するとともに前記DLC膜よりも硬度が低い改質層を形成することを特徴とする摺動材の表面加工方法。

IPC (2件)：

C23C 26/00 ,  F16C 33/24

FI (2件)：

C23C26/00 E ,  F16C33/24 Z

Fターム (12件)：

3J011DA01 ,  3J011QA04 ,  3J011SE10 ,  4K044AA02 ,  4K044AB10 ,  4K044BA18 ,  4K044BB01 ,  4K044BC01 ,  4K044BC06 ,  4K044CA13 ,  4K044CA41 ,  4K044CA44

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 摺動材及びその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2005-357064   出願人：独立行政法人科学技術振興機構, アイテック株式会社