特許

J-GLOBAL ID：201103009689193774

マスク描画方法

発明者： 安里 直生
出願人/特許権者： 日本電気株式会社
代理人 (1件)： 畑 泰之
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-066801
公開番号（公開出願番号）：特開2000-267256
特許番号：特許第3395695号
出願日： 1999年03月12日
公開日（公表日）： 2000年09月29日
請求項（抜粋）：

【請求項1】 基板上に塗布されたレジストに所定のパターンを描画するラスタスキャン方式で且つマルチパスグレープリンティング方式のマスク描画装置のマスク描画方法において、描画アドレスに乗った部分の露光量を1として規格化した時、各パス毎の露光量を、1/n(n=描画アドレス幅/設計グリッド幅で求められる整数)のm(任意の整数)倍の少なくとも二つ以上の異なる露光量に設定して同一描画領域をそれぞれ重ねて露光し、前記レジストに所定のパターンを描画することを特徴と3するマスク描画方法。

IPC (2件)：

G03F 1/08 ,  H01L 21/027

FI (2件)：

G03F 1/08 C ,  H01L 21/30 502 P

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 電子線描画方法および装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-295724   出願人：株式会社日立製作所
• 特開昭54-089579
  
• 特開昭54-089579