特許
J-GLOBAL ID：201103009761008570
真空処理装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
ポレール特許業務法人
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-014130
公開番号（公開出願番号）：特開2011-155044
出願日： 2010年01月26日
公開日（公表日）： 2011年08月11日
要約：
【課題】真空処理室の残留ガスと導入ガスを高速に置換することのできる真空処理装置を提供する。【解決手段】真空処理室109内に、それぞれ異なるガスを導入する複数の処理ステップにより試料117の処理を行なう真空処理装置において、複数の処理ステップを継続する時、前ステップ終了時のガス流量を定常処理時の設定値より減少させる、または後ステップの開始時のガス流量を設定値より増加させる、または前ステップ終了時のガス流量を設定値より減少させ、且つ後ステップの開始時のガス流量を設定値より増加させる。これにより高速置換が可能となり安定した真空処理が実現できる。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
真空処理室内に、それぞれ異なるガスを導入する複数の処理ステップにより試料の処理を行なう真空処理装置において、前記複数の処理ステップを継続する時、前ステップ終了時直前のガス流量を定常処理時の設定値より減少させる、または後ステップの開始時のガス流量を定常処理時の設定値より増加させる、または前ステップ終了時直前のガス流量を定常処理時の設定値より減少させ、且つ後ステップの開始時のガス流量を定常処理時の設定値より増加させることにより、前ステップで導入していたガスの残留と、後ステップで導入するガスが前記真空処理室内に到達する時間の遅れを抑制することを特徴とする真空処理装置。
IPC (2件)：
H01L 21/306
, H01L 21/205
H01L21/302 105A
, H01L21/205
5F004BA14
, 5F004CA01
, 5F004CA02
, 5F004CA08
, 5F004CB02
, 5F004DA23
, 5F004DA25
, 5F004DA26
, 5F004DB02
, 5F004EA28
, 5F045EE14
, 5F045EE17
