特許
J-GLOBAL ID：201103010355958298
粒子径分布測定装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
藤本 英夫
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-108871
公開番号（公開出願番号）：特開2000-304679
特許番号：特許第3415475号
出願日： 1999年04月16日
公開日（公表日）： 2000年11月02日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 レーザ光を試料に出射する光源と、試料に照射されて散乱した光を入射するリングディテクタとを備えて、試料で散乱した光の強度パターンに基づいて試料の粒子径分布を測定するようにした粒子径分布測定装置であって、前記レーザ光源から照射された光を集光レンズを介して反射させた後、試料に照射して前記リングディテクタに入射させるミラーと、ミラー面を二次元方向の軸線まわりで角度変更させるアクチュエータと、ミラー面を反射したレーザ光の光軸を前記リングディテクタの中心に一致させるアクチュエータ制御手段とを備え、更に、前記ミラーと前記リングディテクタとの間に光学系を介在させることなく前記リングディテクタに前記入射する光が焦点を結ぶよう構成されていることを特徴とする粒子径分布測定装置。
IPC (1件)：
FI (1件)：
引用特許：
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