特許
J-GLOBAL ID:201103010423282303
足温浴器
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
雨笠 敬
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-381673
公開番号(公開出願番号):特開2003-180791
特許番号:特許第3942421号
出願日: 2001年12月14日
公開日(公表日): 2003年07月02日
請求項(抜粋):
【請求項1】 足浴槽内に足浴用の湯を貯溜して成る足温浴器において、
前記足浴槽内の水を電気分解することにより次亜塩素酸を含む電解水を生成する電解水生成手段と、
前記足浴槽内に気泡を発生させる気泡発生手段と、
前記電解水生成手段と気泡発生手段を制御する制御手段とを備え、
該制御手段は、前記電解水生成手段により間欠的に電解水の生成を行うと共に、前記気泡発生手段により気泡を発生させる場合、電解水生成手段による1回当たりの電解水生成時間を延長することを特徴とする足温浴器。
IPC (1件):
FI (1件):
引用特許:
出願人引用 (4件)
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足洗浄器
公報種別:公開公報
出願番号:特願平4-131178
出願人:東陶機器株式会社
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貯留式給水装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平9-186520
出願人:日立テクノエンジニアリング株式会社, 九州日立マクセル株式会社
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風呂水殺菌装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平10-191182
出願人:松下電器産業株式会社
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湯水制御装置及びそれを用いた入浴装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平9-090654
出願人:松下電器産業株式会社
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審査官引用 (11件)
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足洗浄器
公報種別:公開公報
出願番号:特願平4-131178
出願人:東陶機器株式会社
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貯留式給水装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平9-186520
出願人:日立テクノエンジニアリング株式会社, 九州日立マクセル株式会社
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風呂水殺菌装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平10-191182
出願人:松下電器産業株式会社
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湯水制御装置及びそれを用いた入浴装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平9-090654
出願人:松下電器産業株式会社
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浴室用機器
公報種別:公開公報
出願番号:特願2000-056784
出願人:松下電器産業株式会社
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有機塩素化合物の処理方法及び装置並びにシステム
公報種別:公開公報
出願番号:特願平11-332451
出願人:株式会社大林組
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水浄化装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平11-119437
出願人:松下電器産業株式会社
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電解槽
公報種別:公開公報
出願番号:特願平10-276046
出願人:ホシザキ電機株式会社
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浄水殺菌装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平10-151151
出願人:サンデン株式会社
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飲料水殺菌装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平8-175158
出願人:サンデン株式会社
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足洗い器
公報種別:公開公報
出願番号:特願平5-160201
出願人:岩谷産業株式会社
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