特許
J-GLOBAL ID：201103010646734524
Mg含有ITOスパッタリングターゲットおよびMg含有ITO蒸着材の製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-270005
公開番号（公開出願番号）：特開2001-098359
特許番号：特許第3632524号
出願日： 1999年09月24日
公開日（公表日）： 2001年04月10日
請求項（抜粋）：
【請求項1】酸化インジウム粉末及び酸化スズ粉末、又は酸化インジウムー酸化スズ粉末と、水酸化マグネシウム粉末とを、Mgの含有量が、Mg/(In+Sn+Mg)の原子比で0.1〜20.0%となるように混合し、成形した後、焼結してなる焼結体を加工することを特徴とする、実質的にIn、Sn、MgおよびOからなるMg含有ITOスパッタリングターゲットの製造方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
C23C 14/34 A
, C04B 35/00 J
