表面処理装置

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：ポレール特許業務法人
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-257857
公開番号（公開出願番号）：特開2001-085395
特許番号：特許第4414518号
出願日： 1999年09月10日
公開日（公表日）： 2001年03月30日
請求項（抜粋）：

【請求項1】真空容器と、その中にプラズマを発生させる電源と、前記真空容器中に置かれた試料台に高周波を印加するバイアス電源を備えた表面処理装置において、前記バイアス電源の出力を、出力がパルス状に繰り返しオンオフするパルス変調出力と出力が連続する連続バイアス出力とに切り替えられ、かつ該バイアス電源を最高出力値が少なくとも大小2つのモードに切り替えられるように構成し、前記バイアス電源を、前記パルス変調出力時は前記最高出力値が大きなモードで、前記連続バイアス出力時は前記最高出力値が小さいモードで使用するようにしたことを特徴とする表面処理装置。

IPC (3件)：