特許
J-GLOBAL ID:201103010836795015

変動磁場発生装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 丸岡 裕作
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-097833
公開番号(公開出願番号):特開2002-299116
特許番号:特許第3607213号
出願日: 2001年03月30日
公開日(公表日): 2002年10月11日
請求項(抜粋):
【請求項1】物体に変動磁場を付与する変動磁場発生装置において、磁化されて磁場領域を形成し該磁場領域で上記物体に磁場を付与する酸化物超電導体と、上記物体と上記酸化物超電導体とを相対的に移動させ該物体に対する磁場領域の相対位置を変える移動手段と、上記酸化物超電導体をその臨界温度以下に保持する温度保持手段とを備え、 上記移動手段を、上記物体に対向し上記酸化物超電導体が非磁性体に配置された回転可能な回転盤と、該回転盤を回転させる駆動部とを備えて構成し、 上記酸化物超電導体を、上記回転盤の回転中心を中心とする円周上に所定間隔で配置し、 上記回転盤を一対用い、該一対の回転盤を同軸上で同回転するように上記物体を挟んで対峙させるとともに、該各回転盤の酸化物超電導体同士を互いに所定角度関係で位相をずらせて配置し、かつ、該各回転盤の酸化物超電導体同士の磁極を互いに逆向きにし、上記変動磁場の強度が連続して生じるようにしたことを特徴とする変動磁場発生装置。
IPC (1件):
H01F 6/00
FI (1件):
H01F 7/22 ZAA A
引用特許:
出願人引用 (1件) 審査官引用 (1件)

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