粒度分布の改良されたポリフェニレンエーテル粉体の製造法

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：加々美紀雄 , 酒井正己 , 小松純
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-109658
公開番号（公開出願番号）：特開2000-302877
特許番号：特許第4152521号
出願日： 1999年04月16日
公開日（公表日）： 2000年10月31日
請求項（抜粋）：

【請求項1】温度5〜200°Cの範囲のポリフェニレンエーテル粉体を圧縮成型することにより密度0.7〜1.055g/cm3の成型体を生成し、得られた成型体を再粉砕することによって粒径1μm以下の微小粒子の含有率を全体の0.5重量%以下とすることを特徴とする粒度分布の改良されたポリフェニレンエーテル粉体の製造法。

IPC (3件)：