特許
J-GLOBAL ID：201103011663610622

ガスセンサ素子の製造方法、及び、ガスセンサの製造方法

発明者：
磯村 浩

磯村 浩 について

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佐藤 綾

佐藤 綾 について

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渥美 尚勝

渥美 尚勝 について


出願人/特許権者：
日本特殊陶業株式会社

日本特殊陶業株式会社 について


代理人 (1件)： 特許業務法人コスモス特許事務所
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-118220
公開番号（公開出願番号）：特開2011-247621
出願日： 2010年05月24日
公開日（公表日）： 2011年12月08日
要約：
【課題】 基体の内表面について貴金属の使用量を低減するために、マスク治具の外面をマスク部に隙間無く密着させて、マスク治具を適切にマスク部に装着できるガスセンサ素子の製造方法、及び、ガスセンサの製造方法を提供する。【解決手段】 メッキ工程に先立って、基体1の内表面1nのうち電極21を形成する予定の電極予定部3とは異なるマスク部4に、マスク治具18を装着するマスク治具装着工程を備える。マスク治具装着工程では、マスク外面18bの曲率半径が縮小する方向にマスク治具18を弾性変形させつつ、マスク治具18を基体1の内側に挿入し、マスク治具18の弾性復元力により、マスク外面18bをマスク部4に密着させると共にマスク治具18をマスク部4に固定する。【選択図】 図11
請求項（抜粋）：
軸線方向に延びる有底筒状の基体の内表面に核を付着させる核付け工程と、 上記核が触媒として作用するメッキ液を用いて、上記メッキ液中の貴金属を上記基体の内表面に析出させるメッキ工程と、を経て、 上記基体の内表面に、上記貴金属からなる電極を形成するガスセンサ素子の製造方法であって、 上記メッキ工程に先立って、上記基体の内表面のうち上記電極を形成する予定の電極予定部とは異なるマスク部に、マスク治具を装着するマスク治具装着工程と、 上記電極予定部に上記貴金属を析出させる上記メッキ工程と、を備え、 上記マスク治具は、 上記軸線方向に延びる形態で、 当該マスク治具を上記マスク部に装着したときに上記マスク部と接するマスク外面が、当該マスク治具を上記軸線方向に直交する方向に切断した断面において円弧をなし、 上記マスク外面の曲率半径が拡縮する方向に弾性変形可能とされ、 当該マスク治具を上記マスク部に装着する前の上記マスク外面の曲率半径が、上記マスク部の曲率半径よりも大きくされてなり、 上記マスク治具装着工程では、 上記マスク外面の曲率半径が縮小する方向に上記マスク治具を弾性変形させつつ、上記マスク治具を上記基体の内側に挿入し、上記マスク治具の弾性復元力により、上記マスク外面を上記マスク部に密着させると共に上記マスク治具を上記マスク部に固定する ガスセンサ素子の製造方法。
IPC (2件)：
G01N 27/41 ,  G01N 27/409
FI (2件)：
G01N27/46 325K ,  G01N27/58 B
Fターム (4件)：
2G004BB01 ,  2G004BE15 ,  2G004BG05 ,  2G004BM07
引用特許：
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (5件)
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