特許
J-GLOBAL ID:201103011670405830

蛍光X線分析装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 塩野入 章夫
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-345946
公開番号(公開出願番号):特開2003-149182
特許番号:特許第3729341号
出願日: 2001年11月12日
公開日(公表日): 2003年05月21日
請求項(抜粋):
【請求項1】少なくとも二つの励起X線源と、試料ステージを備え、前記試料ステージは、前記各励起X線源が照射する一次X線の試料面での照射位置と試料ステージの原点に対するオフセット量を、各励起X線源毎に位置補正する、蛍光X線分析装置。
IPC (2件):
G01N 23/223 ,  G21K 5/02
FI (3件):
G01N 23/223 ,  G21K 5/02 W ,  G21K 5/02 X
引用特許:
出願人引用 (2件)
  • 蛍光X線分析装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平10-131183   出願人:株式会社島津製作所
  • X線装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願2000-228443   出願人:理学電機株式会社

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