特許
J-GLOBAL ID:200903075752985800
蛍光X線分析装置
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
縣 浩介
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-131183
公開番号(公開出願番号):特開平11-014570
出願日: 1998年04月24日
公開日(公表日): 1999年01月22日
要約:
【要約】【課題】 単色X線を試料に照射する型の蛍光X線分析装置で複数種の波長の1次X線を選択可能としたものは、複数のX線管と夫々に対応するX線分光手段を用いていたので、装置が大型,複雑,高価である。この点を改善する。【解決手段】 一つのX線管1のX線発生点Pを共通のX線入射点とし、試料2上の一点Qを共通のX線収束点とする複数種の分光結晶51〜56をX線発生点Pと試料上のX線収束点Qを結ぶ直線の周りに配置した。
請求項(抜粋):
一つのX線管と、そのX線発生点と試料が置かれる場所の一つの点とを結ぶ直線の周りに配置され、上記X線発生点をX線の入射点とし、上記試料が置かれる場所の一つの点をX線の収束点とする複数のX線分光器と、上記各X線分光器の分光結晶へのX線入射側と分光結晶からの出射側とに配置されて、各分光結晶から試料に向かうX線のみを通すX線分光器毎の入射側スリットおよび出射側スリットとよりなる蛍光X線分析装置。
IPC (2件):
FI (2件):
G01N 23/223
, G21K 1/06 S
引用特許:
審査官引用 (5件)
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全反射型蛍光X線分析方法及び分析装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平3-023479
出願人:株式会社日立製作所
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蛍光X線分析装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平4-328468
出願人:理学電機工業株式会社
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特開平4-115199
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特開昭62-255900
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特許第3673849号
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